PVD materijali
Dec 28, 2017| PVD ili Materijali za taloženje fizikalnih para sadrže raspon metala koji se mogu koristiti u magnetiziranju prskanja kako bi se stvorili tanki premazi i premazi. Angstrom Sciences također nudi sveobuhvatnu ponudu materijala za visoki stupanj čišćenja pod vakumom, uključujući:
aluminijum Aluminij bakar Aluminij bakar Volfram Aluminij nitrid Aluminij oksid Aluminij silicij Antimon Barij Barij ferit Barijev fluorid Barium Strontium titanat Barium Titanate Barij oksid Berilijum Bizmut Bizmut Lanthanum titanijum Bizmut stroncij kalcij Bizmut stroncij titanata Titm oksid Bizmut trioksid Bor Borov karbid Borov nitrid Kadmij fluorid Kadmij oksid Kadmij Selenid Kadmij sulfid Kadmij Telluride Kalcijev fluorid Kalcijev oksid Kalcijev silikat Kalcij titanata Ugljik (grafit) Ugljični čelik cerijum Cerium Oksid Krom Kromov borid Kromov oksid Kromov silicid Kobalt Kobaltni krom Kobaltni oksid Kobalt silicid Kobalt cirkonij Bakar | Bakarni sulfid Bakar oksid rijetki metali erbijum evropijum galijum Gallium arsenid Galskim oksidom gadolinijum germanijum Germanium Nitride Germanijev oksid Zlato Zlato germanium Zlato paladij Zlatni tanjur Zlato cink hafnij Hafnium karbid Hafnium Nitride Hafnium oksid holmij Inconel indijum Indij oksid Indijskog oksida iridijum Željezo Željezni oksid voditi Lantan Lantanum aluminat Lanthanum Boride Lantan oksid Lanthanum Strontium Kobaltni oksid Lantanum mangan Oksid Olovni oksid Olovni Titanat Olovo cirkonij titanata Oksid litij Litij karbonat Litij kobaltni oksid Litij-niobat | Litij fosfat Litij tantalat Magnezij Magnezijev fluorid Magnezij monoksid Magnezijev oksid Mangan Molibden Molibden disulfid Molibden oksid Molibdenski selenid Molibdenski silicid Molibden sulfid neodimij Neodimski galijev oksid Neodimijski željezni borid nikl Nikalni krom Nikal kobalt Nikal oksid Nikalni silicid Nikal vanadij niobijum Niobium oksid paladijum Platina praseodimij Piritolitički borov nitrid renijum rodijum rutenijum samarij Samarium Cobalt skandijum Scandium Oxide Selen Silicij Silikonski karbid Silicij dioksid Silikonski monoksid Silicij nitrid Srebro Srebrni oksid Stroncij bizmut niobij Oksid | Stroncij bizmut tantal niobijum Lancijan dopunjenog stroncijom Stroncij oksid Stroncij titanata Tantal Tantalov karbid Tantalum nitrid Tantalov oksid Tantalni silicid Tantal sulfid Telur terbijum Terbium željezo talijum Talijev oksid Thorium Fluoride Torijev oksid Kositar Tin oksid titanijum Titanski borid Titan karbid Titan nitrid Titan oksid Titan silicid Titan sulfid Volfram Tungsten silicid Volfram sulfid Titan volfram vanadijum Vanadij pent oksid itrijum Itrij barijev oksid bakra Yttrium Oxide Cinkov Cinkov oksid Cink selenid Cink sulfid cirkonij Cirkonijev nitrid Cirkonijev oksid Cirkonijev silikat Cirkonijev oksid litrij oksid |
Ovdje su tri čimbenika koji utječu na kvalitetu i funkcionalnost filma pohranjenog s Physical Deposition Deposition (PVD): kvalitetom i izvedbom izvora taloženja, svojstvima i strukturi materijala za taloženje i intrinzičnom izvedbom i izgledom taloženja sustava i njegovih pridruženih perifernih uređaja.
Nisu svi materijali ekvivalentni u tim procesima jer je kemijski sastav izvornog materijala samo polazna točka robusnog procesa specifičnog za pojedinu aplikaciju. Razine nečistoća, veličina zrna, kristalografska struktura / tekstura samo su nekoliko razmatranja koje idu u jedinstveno oblikovanje strukture odgovarajuće strukture taloženja.