Vakuumsko ionsko nanošenje

Vakuumska ionska obrada

Molekule materijala koji isparava ioniziraju se sudarom elektrona, a zatim se ioni talože na krutu površinu, što se naziva ionska obrada. Ovu tehniku ​​predložio je D. Mettox 1963. Ionska obrada kombinacija je vakuumskog isparavanja i katodnog raspršivanja. Sustav ionske ploče općenito koristi supstrat kao katodu, ljusku kao anodu i ispunjen je inertnim plinom (kao što je argon) za stvaranje tinjajućeg pražnjenja. Molekule isparene iz izvora isparavanja ioniziraju se dok prolaze kroz područje plazme. Pozitivni ioni se ubrzavaju do površine supstrata negativnim naponom. Unionizirani neutralni atomi (oko 95 posto isparenog materijala) također se talože na podlozi ili površini stijenke vakuumske komore. Čvrstoća prianjanja filma znatno je poboljšana ubrzanjem ioniziranih molekula pare električnim poljem (energija iona je oko nekoliko stotina ~ nekoliko tisuća elektron volti) i čišćenjem raspršivanjem supstrata ionom argona. Proces ionskog nanošenja kombinira karakteristike isparavanja (visoka brzina taloženja) i raspršivanja (dobro prianjanje filma) i ima dobru difrakciju, što se može koristiti za premazivanje izradaka složenog oblika.

Tvrtka IKS PVD, stroj za dekorativno premazivanje, stroj za premazivanje alata, stroj za DLC premazivanje, stroj za optičko premazivanje, linija za vakuumsko premazivanje PVD, dostupan je projekt po principu "ključ u ruke". Kontaktirajte nas odmah, E-mail:iks.pvd@foxmail.com