Vakuumski okoliš premazivanja

1. Vakuumski tlak baze komore

(1) Mnoštvo postupaka oblaganja magnetronskim prskanjem mora biti izvedeno u vakuumskoj komori; općenito je potreban vakuumski stupanj zatvorene metalne šupljine da dosegne 10-3Pa ~ 10-5Pa; neki postupci oblaganja mogu čak imati i veći vakuumski zahtjev.

(2) Zbog deflacije adsorbiranog plina na unutarnjoj stijenki vakuumske metalne šupljine i magnetske ciljne površine, potrebno je dulje vrijeme da dostigne potrebnu razinu vakuuma premaza u prvom trenutku pretpumpirajućeg vakuuma. Nakon postizanja potrebnog stupnja vakuuma, budući da je deflacija u osnovi završena, vrijeme vakuuma bit će znatno smanjeno u drugom vakuumu vakuumske evakuacije.

2. Radni plin

Prema različitim filmskim slojevima i zahtjevima procesa, inertni plinovi parcijalnog tlaka se ispuštaju u vakuum komori pri tlaku od 0,1 do 1 Pa (RF magnetron sputtering: 0,1 Pa do 0,05 Pa) u procesu magnetiziranog raspršivanja. Inertni plinovi su najčešće korišteni plinovi, kao argon Ar, Helium Kr, Helium Xe, Helium Ne i Dušik N2. Argon se obično koristi kao radni plin za magnetronsku prskanje zbog niske cijene i lako dostupne.

3. Radni tlak plina

(1) Tlak radnoga plina DC i IF pulziranog magnetronskog raspršivanja općenito je između 0.3 ~ 0.8Pa (tipična vrijednost je 5 * 10-1 Pa).

(2) RF magnetron sputtering može se izvoditi normalno pod radnim tlakom od 10-1 ~ 10-2 Pa.

(3) Proces magnetronskog raspršivanja nekih katodnih ciljeva (kao što su niski zahtjevi na čistoću i hrapavost površine filmskog sloja) također se mogu učinkovito odložiti pod radnim tlakom od 1 Pa ~ 10 Pa ili čak višim.

(4) Različiti čimbenici kao što su veličina vakuum komore, brzina protoka plina, brzina vakuumske pumpe i kut otvaranja i zatvaranja ventila za zatvaranje mogu utjecati na tlak radnog plina. Konačna vrijednost detekcije tlaka radnog plina trebala bi se zapravo smatrati rezultatom dinamičke ravnoteže brzine protoka plina i vakuuma, te kutu otvaranja i zatvaranja ventila za zatvaranje.